特許
J-GLOBAL ID:200903084732851385

酸化物分散メッキ被膜による浸炭防止方法及び前記酸化物分散メッキ被膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小倉 正明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-182168
公開番号(公開出願番号):特開2002-004029
出願日: 2000年06月16日
公開日(公表日): 2002年01月09日
要約:
【要約】【課題】 イオン浸炭法、真空浸炭法等の浸炭が入りやすい浸炭法においても好適に浸炭防止を行うことができる浸炭防止方法を得る。【解決手段】 被処理成品Wの表面の浸炭を防止する部分に、錫(Sn)又は錫合金の粉体と、電融安定ジルコニア(ZrO2)等から成る酸化物の粉体とを混合し、又はそれぞれ別々に噴射する。酸化物の粉体17及び錫又は錫合金の粉体16が被処理成品Wの表面に衝突すると、被処理成品Wの表面に酸化物の分散された錫又は錫合金の被膜14が形成され、この被膜14により被覆された部分の浸炭が防止される。
請求項(抜粋):
被処理成品の表面の浸炭を防止する部分に、錫又は錫合金の粉体と酸化物の粉体とから成る噴射粉体を80m/sec以上の噴射速度で噴射して、酸化物の分散された錫又は錫合金の被膜を形成した後、前記被処理成品を浸炭処理することを特徴とする酸化物分散メッキ被膜による浸炭防止方法。
IPC (4件):
C23C 8/04 ,  C23C 8/38 ,  C23C 24/04 ,  C23C 26/00
FI (4件):
C23C 8/04 ,  C23C 8/38 ,  C23C 24/04 ,  C23C 26/00 A
Fターム (10件):
4K028AA01 ,  4K028AB01 ,  4K028BA03 ,  4K028BA12 ,  4K044AA02 ,  4K044BA10 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BB11 ,  4K044CA23
引用特許:
審査官引用 (5件)
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