特許
J-GLOBAL ID：200903084742568150
温度制御装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-338047
公開番号（公開出願番号）：特開平7-200078
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 制御過程においても常により均一で、高精度の温度制御を達成することのできる温度制御装置を提供する。【構成】 本発明では、マスターFBにおける測定値PVを抑制し、各測定値PVを一致させたまま昇降温させるため、各測定値PVの平均値を平均目標値(Ave SV)とし、マスターFBにおける測定値PVは、Ave SVに一致するように制御することを考慮し、マスターFBにおける測定値PVが目標値PVに到達しようとするための制御に対する荷重部における値W1 と、マスターFBにおける測定値PVがAve SVに到達しようとするための制御に対する荷重部における値W2 とを設定し、均一温度制御を行うようにしている。
請求項（抜粋）：
容器と、前記容器内に設置された被処理物を、所望の温度に加熱冷却する複数の加熱冷却部を備えた加熱冷却手段と、前記容器内の複数の点における温度を測定する複数の温度測定部を備えた温度測定手段と、前記温度測定手段の測定結果をフィードバックし、前記温度測定手段の各温度測定部から得られる測定値が目標値となるように前記各温度測定部に対応する前記各加熱部を制御する制御手段とを備え、前記制御手段が、それぞれ1つの前記加熱冷却部および前記温度測定部に対応した複数のフィードバック(FB)ループを備え、前記FBループの1つをマスターFBとし他をスレーブFBとするマスタースレーブ方式の制御手段であり、マスターFBにおける制御が、マスターFBにおける測定値PVが目標値SVに荷重W1 で到達しようとする第1の制御部と、各温度測定部の測定値PVの平均値を平均目標値(Ave SV)とし、この平均目標値に荷重W2 で到達しようとする第2の制御部とを具備し、これらの荷重が調整可能であるとともに、スレーブFBは、前記マスターFBの測定値PVに追従するように制御されることを特徴とする温度制御装置。
IPC (3件)：
G05D 23/19
, G05B 11/36 501
, G05B 11/36
