特許

J-GLOBAL ID：200903084751890227

半導体製造設備用転がり軸受

発明者： 近藤 博光 ,  山田 博
出願人/特許権者： エヌティエヌ株式会社
代理人 (1件)： 江原 省吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-008938
公開番号（公開出願番号）：特開平5-196045
出願日： 1992年01月22日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【目的】 平均分子量が5000以下のPTFEを用いた転がり軸受の耐久性をさらに向上させる。【構成】 保持器4は自己潤滑性を有する高分子材で形成されている。内・外輪1、2の転走面および転動体3の表面にはそれぞれ平均分子量が5000以下のPTFEの潤滑皮膜1a、2a、3aが形成されている。

請求項（抜粋）：

転がり軸受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる表面に、平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を形成したものであって、この軸受の保持器が自己潤滑性を有する高分子材で形成されていることを特徴とする半導体製造設備用転がり軸受。

IPC (5件)：

F16C 33/62 ,  F16C 33/32 ,  F16C 33/34 ,  F16C 33/44 ,  F16C 33/56

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 固体潤滑転がり軸受
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-190150   出願人：エヌテイエヌ株式会社