特許

J-GLOBAL ID：200903084758762178

立体形状検出方法およびその装置

発明者： 吉村 一成 ,  中村 国法
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 石田 長七 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-167889
公開番号（公開出願番号）：特開平6-011319
出願日： 1992年06月25日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【目的】三角測量法を用いて被検出物の表面形状を光学的に検出する際の処理を簡略化する。【構成】多数の光ファイバ36の光導入面を検知エレメント330 〜337 として一直線上に配列する。各検知エレメント330 〜337 は、それぞれ出力エレエメント340 〜347 である光合波器に対応する。また、各検知エレメント330 〜337 と出力エレメント340 〜347 との対応関係はサイクリックに設定する。基準面P0 に対する点状の受光パターンが形成される検知エレメント330 〜337 を含み、検知エレメント330 〜337 が一巡する範囲内の検知エレメント330 〜337 のみを検知領域として制限する。被検出物1の表面に対する点状の受光パターンの位置を検知領域内で求めれば、基準面P0 に対する受光パターンの位置との比較ができる。

請求項（抜粋）：

被検出物の表面に光ビームを投射して被検出物の表面上で光パターンを移動させ、光パターンを投射方向とは異なる方向から観測し光パターンの像として受光面に形成した受光パターンの位置に基づいて被検出物の表面の立体形状を検出する方法において、受光面を多数の検知域に分割し、各検知域を既定の複数の出力群のいずれかに対応付けて、既定の基準面に対する被検出物の表面の変位量に応じて受光パターンが変位する方向に並ぶ検知域を、検知域に対応する出力群が循環するように配列し、基準面への光ビームの各投射位置に対応した各受光パターンが形成される検知域をそれぞれ基準域とし、被検出物の表面に同じ投射位置の光ビームを投射したときに受光パターンが形成される検知域の範囲を、基準域を含みかつ各出力群に対応付けた検知域が一巡する範囲以内に制限し、この制限範囲内で受光パターンが形成された検知域に対応する出力群を求めることによって、光ビームの投射位置と出力群とに基づいて受光パターンが形成されている検知域を特定し、特定した検知域と基準域との相対位置に基づいて光ビームの各投射位置に対応した被検出物の表面の基準面からの変位量を求めることを特徴とする立体形状検出方法。

IPC (5件)：

G01B 11/24 ,  G01C 3/06 ,  G06F 15/62 415 ,  G06F 15/64 ,  G06F 15/70 455