特許
J-GLOBAL ID：200903084771034637
パターンの位置測定方法およびそれを用いた光学装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-123282
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316132
出願日： 1995年05月23日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【目的】 高精度に測定することのできるパターンの位置測定方法およびそれを用いた光学装置を提供することにある。【構成】 パターンが形成されているマスク1の離間した位置に配置されているウエハ2に形成されているパターンの位置測定方法であって、ウエハ2上に形成されているパターンの像の画像信号を処理してパターンの位置を測定する際、テンプレートの中心位置を重ね合せる実波形中の位置およびテンプレートの形状に関するパラメータの両方を変化させながら、実波形とテンプレートが最もよく一致するパラメータの組み合せを求めることにより、ウエハ2上におけるパターンの位置を検出して測定するものとする。
請求項（抜粋）：
パターンが形成されているマスクの離間した位置に配置されているウエハ上に形成されているパターンと前記マスク上に形成されているパターンの前記ウエハ上に転写された像を位置合せする際に行う前記ウエハ上に形成されているパターンの位置測定方法であって、前記ウエハ上に形成されているパターンの像の画像信号を処理してパターンの位置を測定する際、テンプレートの中心位置を重ね合せる実波形中の位置およびテンプレートの形状に関するパラメータの両方を変化させながら、実波形とテンプレートが最もよく一致する前記パラメータの組み合せを求めることにより、前記ウエハ上における前記パターンの位置を検出して測定することを特徴とするパターンの位置測定方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 525 D
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 W
