酸化チタン光触媒高担持シリカゲルおよびその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-024486
公開番号（公開出願番号）：特開2000-218160
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
要約：

【要約】【課題】シリカゲル表面近傍の酸化チタン濃度を高くし,中心部の酸化チタン濃度を低くなるように濃度勾配を設けることにより,空気中の悪臭や有害物質,あるいは水中に含まれている有機溶剤,農薬などの環境汚染物質などを分解する性能を向上させ,しかも安全性,経済性,安定性,耐水性(水に入れても割れない)という観点からも優れた特性を有する光触媒高担持シリカゲルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】平均細孔径が6〜100nmの範囲にあるシリカゲルの表面近傍の細孔内に含ませる酸化チタン量を7〜70重量%とし,かつ当該酸化チタン量を当該シリカゲル中心部付近の細孔内に含ませる酸化チタン量の1.5倍以上となるように濃度勾配を持たせたことを特徴とする酸化チタン光触媒高担持シリカゲル。

請求項（抜粋）：

平均細孔径が6〜100nmの範囲にあるシリカゲルの表面近傍の細孔内に含ませる酸化チタン量を7〜70重量%とし,かつ当該酸化チタン量を当該シリカゲル中心部付近の細孔内に含ませる酸化チタン量の1.5倍以上となるように濃度勾配を持たせたことを特徴とする酸化チタン光触媒高担持シリカゲル。

IPC (4件)：

B01J 21/08 , B01J 35/02 , B01J 37/04 101 , B01J 37/08

FI (5件)：

B01J 21/08 M , B01J 21/08 A , B01J 35/02 J , B01J 37/04 101 , B01J 37/08

Fターム (20件)：

4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069BB06A , 4G069BB06B , 4G069CA02 , 4G069CA03 , 4G069CA05 , 4G069CA11 , 4G069CA17 , 4G069DA05 , 4G069EC10X , 4G069EC10Y , 4G069FB14 , 4G069FB18 , 4G069FC08

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平3-296435
特開平4-317742

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