特許

J-GLOBAL ID：200903084789818899

サブミクロンスケールのパターニングの方法およびシステム

発明者： ワン,ジアン ,  チェン,レイ ,  リー,ハワード
出願人/特許権者： ナノオプト コーポレーション
代理人 (3件)： 平木 祐輔 ,  石井 貞次 ,  藤田 節
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-523974
公開番号（公開出願番号）：特表2007-503120
出願日： 2004年08月19日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：

ナノパターンの複製方法を開示する。この方法は、基板を特定すること(110)と;基板の表面を液体層で被覆すること(120)と;ナノパターンのネガを規定する複数の凹部を有する成形型を被覆液体層に十分に近接して位置決めして成形型の複数の凹部の少なくとも一部分を液体層で自己充填させること(130)と;液体層を化学変換させて変換膜がナノパターンを実質的に保持しうるようにすること(140)と;成形型を分離すること(150)と;を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ナノパターンを複製する方法であって 基板を特定することと; 該基板の表面を液体層で被覆することと; ナノパターンのネガを規定する複数の凹部を有する成形型を被覆された該液体層に十分に近接して位置決めして該成形型の該複数の凹部の少なくとも一部分を該液体層で自己充填させることと; 該液体層を化学変換させてこの変換された膜が該ナノパターンを実質的に保持しうるようにすることと; を含む、上記方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/320 ,  H01L 21/768 ,  B82B 3/00

FI (4件)：

H01L21/30 502D ,  H01L21/88 B ,  H01L21/90 Q ,  B82B3/00

Fターム (15件)：

5F033GG03 ,  5F033GG04 ,  5F033HH08 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ15 ,  5F033RR03 ,  5F033RR04 ,  5F033RR06 ,  5F033SS22 ,  5F033TT02 ,  5F033XX03 ,  5F046AA25 ,  5F046AA28 ,  5F046BA10