特許

J-GLOBAL ID：200903084793781860

インライン式スパツタ装置およびその運転方法

発明者： 亀井 光浩 ,  瀬戸山 英嗣
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-265505
公開番号（公開出願番号）：特開平5-070952
出願日： 1991年09月18日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：

【要約】【目的】 成膜室を大気に開放することなくターゲツト電極の交換を可能にし、稼動率の向上と膜質の安定性を図る。【構成】 成膜室1に複数の開口部を介して複数のターゲツト交換室2a〜2eを形成し、各開口部をターゲツト交換室2a〜2e側へ移動可能な複数のターゲツト電極3a〜3eで密封し、少なくとも消耗の多いターゲツト電極2aは、ターゲツト交換室2a内に新たなターゲツト電極3Aを配置した状態で成膜室1とほぼ同じ状態にした後、ターゲツト交換室2a内に移動し、その後、新たなターゲツト電極3Aで開口部を密封するようにした。

請求項（抜粋）：

成膜室内に、基板と、この基板に対向配置したターゲツト電極とを備え、上記ターゲツト電極のスパツタ粒子を上記基板に堆積させて成膜するインライン式スパツタ装置において、上記ターゲツト電極を複数設け、これらターゲツト電極のうち少なくとも消耗の大きな1つは、上記成膜室に形成した開口部を介して設けたターゲツト交換室側から上記開口部を密封すると共に、上記ターゲツト交換室側へ移動可能に設けたことを特徴とするインライン式スパツタ装置。

IPC (2件)：

C23C 14/56 ,  C23C 14/34

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-170671
  
• 特開昭62-202078
  
• 特開平2-115366