特許

J-GLOBAL ID：200903084823051659

シリコンの一方向凝固装置

発明者： 濱田 俊二 ,  加藤 嘉英 ,  阿部 正道
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 小杉 佳男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-003816
公開番号（公開出願番号）：特開平11-199216
出願日： 1998年01月12日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：

【要約】【課題】本発明は、従来よりも凝固速度を一定に維持可能なシリコンの一方向凝固装置を提供することを目的としている。【解決手段】鋳造室内に設けた支持台上に配置される鋳型と、該鋳型に鋳造されるシリコン溶湯を注ぐ給湯手段と、鋳型内溶湯の上方を加熱する加熱手段と、鋳型の底部を冷却する水冷銅板と、該水冷銅板-鋳型底部間に配置する断熱材とを備えたシリコンの一方向凝固装置において、前記鋳造室の上方に前記給湯手段及び加熱手段を、該鋳造室の中心から同一半径位置にそれぞれ離隔して設けると共に、前記中心を軸として互いに独立に回動する上下に重なった2枚の円盤を備え、その上方の円盤を鋳型の支持台とし、下方の円盤を断熱材の支持台とした。

請求項（抜粋）：

鋳造室内に設けた支持台上に配置される鋳型と、該鋳型に鋳造されるシリコン溶湯を注ぐ給湯手段と、鋳型内溶湯の上方を加熱する加熱手段と、鋳型の底部を冷却する水冷銅板と、該水冷銅板-鋳型底部間に配置する断熱材とを備えたシリコンの一方向凝固装置において、前記鋳造室の上方に前記給湯手段及び加熱手段を、該鋳造室の中心から同一半径位置にそれぞれ離隔して設けると共に、前記中心を軸として互いに独立に回動する上下に重なった2枚の円盤を備え、その上方の円盤を鋳型の支持台とし、下方の円盤を断熱材の支持台としたことを特徴とするシリコンの一方向凝固装置。

IPC (4件)：

C01B 33/037 ,  H01L 21/208 ,  H01L 31/04 ,  B22D 27/04

FI (4件)：

C01B 33/037 ,  H01L 21/208 Z ,  B22D 27/04 A ,  H01L 31/04 H