特許
J-GLOBAL ID：200903084835304501
X線断層撮影方法及びX線断層撮影装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-165362
公開番号（公開出願番号）：特開平9-010201
出願日： 1995年06月30日
公開日（公表日）： 1997年01月14日
要約：
【要約】【目的】 ガントリをチルトさせた状態でのスキャンにおいてスライス面の重なりを生じることのないテーブル・ガントリ制御を実行することが可能なX線断層撮影方法及びX線断層撮影装置を実現する。【構成】 測定空間にX線を照射し、この測定空間に載置された被検体を透過して入射するX線をn列のX線検出列で検出する際に、X線の照射及び検出を体軸に垂直な面に対してθだけ傾けた状態のガントリで行い、スライス厚tのX線の焦点を被検体の回りを回転させながら、被検体の体軸方向に対してガントリ1回転あたりの速度nt/cosθでガントリと被検体とを体軸方向に相対的に移動させる(ステップ3)ことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
測定空間にX線を照射し、この測定空間に載置された被検体を透過して入射するX線をn列のX線検出列で検出する際に、X線の照射及び検出を体軸に垂直な面に対してθだけ傾けた状態のガントリで行い、スライス厚tのX線の焦点を被検体の回りを回転させながら、被検体の体軸方向に対してガントリ1回転あたりの速度nt/cosθでガントリと被検体とを体軸方向に相対的に移動させることを特徴とするX線断層撮影方法。
IPC (2件)：
A61B 6/03 321
, A61B 6/03 323
A61B 6/03 321 K
, A61B 6/03 323 A
