特許

J-GLOBAL ID：200903084836070512

プラズマ洗浄装置およびその運転方法

発明者： 武藤 健一 ,  福田 正行
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 落合 稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-341849
公開番号（公開出願番号）：特開2000-174057
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】 高周波電源の出力を大きくすることなく、基板の単位時間当たりの処理枚数を増加することができるプラズマ洗浄装置およびその運転方法を提供することを目的とする。【解決手段】 印加した高周波電圧によりプラズマを発生させ、発生したプラズマにより基板Aを洗浄する一対のチャンバー2,2と、一対のチャンバー2,2の高周波電極28,29に、高周波電圧を交互に印加する単一の高周波電源31と、一対のチャンバー2,2に対し、それぞれ基板Aを搬入・搬出する搬入・搬出機構6とを備えたものである。

請求項（抜粋）：

印加した高周波電圧によりプラズマを発生させ、発生したプラズマにより基板を洗浄する一対のチャンバーと、前記一対のチャンバーの高周波電極に、高周波電圧を交互に印加する単一の高周波電源と、前記一対のチャンバーに対し、それぞれ基板を搬入・搬出する搬入・搬出機構とを備えたことを特徴とするプラズマ洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/60 301 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/60 301 P ,  H01L 21/304 645 C ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/302 J

Fターム (30件)：

5F004AA13 ,  5F004AA14 ,  5F004BA04 ,  5F004BB17 ,  5F004BB19 ,  5F004CA01 ,  5F004CA02 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB13 ,  5F004DB23 ,  5F004EB02 ,  5F031CA02 ,  5F031FA03 ,  5F031FA09 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA52 ,  5F031GA55 ,  5F031HA57 ,  5F031LA07 ,  5F031LA12 ,  5F031MA23 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA08 ,  5F031NA10 ,  5F044EE13