特許

J-GLOBAL ID：200903084852722422

露光方法及び露光装置

発明者： 川島 美代子 ,  松本 隆宏
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-201341
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021760
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 周期パターンの露光と通常のパターン露光の2重露光によって任意形状の高解像度のパターンが得られる露光方法及び露光装置を得ること。【解決手段】 多重露光を用いた露光方法において、ある露光で使用するマスクは予め現像後の感光基板におけるパターンの変形を見込んでパターンを形成していること。

請求項（抜粋）：

多重露光を用いた露光方法において、ある露光で使用するマスクは予め現像後の感光基板におけるパターンの変形を見込んでパターンを形成していることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 C

Fターム (4件)：

5F046AA13 ,  5F046AA17 ,  5F046BA08 ,  5F046DA02