回折光学素子の製造方法及び光ピックアップヘッド装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-008865
公開番号（公開出願番号）：特開平10-208279
出願日： 1997年01月21日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】 0次光×1次光の光利用効率を向上させることができるブレ-ズ回折光学素子を提供すること。【解決手段】基板に塗布されたレジストをピッチ形状のレジストパタ-ンに形成し、この形成されたピッチ形状のレジストをマスクとしてエッチングし、このエッチングされた基板に重金属膜を形成し、この溝を埋めるように上記基板上にレジスト膜を形成し、この溝に対して所定の入射角をもつようにX線を照射し、この溝に残されたレジストパタ-ンから無電解メッキ等により型を製作し、射出成形により回折光学素子を製作するようにしている。

請求項（抜粋）：

基板上にレジストを塗布するレジスト塗布工程と、このレジスト塗布工程により塗布されたレジストをピッチ形状のレジストパタ-ンに形成するレジストパタ-ン形成工程と、このレジストパタ-ン形成工程で形成されたピッチ形状のレジストをマスクとして基板をエッチングするエッチング工程と、このエッチング工程でエッチングされた基板に重金属膜を形成する重金属膜形成工程と、上記レジストにより溝を埋めるレジスト膜形成工程と、上記溝に対して所定の入射角をもつようにX線を照射するX線照射工程と、上記溝に残されたレジストパタ-ンから無電解メッキ等により型を製作し、この型を用いて射出成形により回折光学素子を製作する光学素子形成工程とを具備したことを特徴とする回折光学素子の製造方法。

IPC (2件)：

G11B 7/135 , G11B 11/10 551

FI (2件)：

G11B 7/135 A , G11B 11/10 551 D

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