特許
J-GLOBAL ID：200903084861526598
プラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
土井 育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-206985
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036683
出願日： 1992年07月13日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 生産性を改善すると共に歩留りを向上させ、かつ良好な線幅精度を得るようにする。【構成】 基板1上に予め障壁パターン或いは電極パターンを形成するパターン形成材料2を所定の膜厚で塗布し、その上から耐サンドブラスト性を有する印刷ペーストを用いて印刷法により所望パターンのサンドブラスト用マスク3を形成した後、該サンドブラスト用マスク3を介してサンドブラスト4により不要部分を除去することで目的とする目的とする障壁パターン或いは電極5パターンを得る。1回の操作により100μm以上のパターンが得られる。マスク3を介してのサンドブラスト処理により厚膜パターンの輪郭が形成されるので、線幅精度が良好となる。
請求項（抜粋）：
プラズマディスプレイ基板上に障壁パターンを形成するパターン形成材料を予め所定の膜厚で塗布し、その上から耐サンドブラスト性を有する印刷ペーストを用いて印刷法により所望パターンのサンドブラスト用マスクを形成した後、該サンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、目的とする障壁パターンを得ることを特徴とするプラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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