特許
J-GLOBAL ID：200903084864837160
反射型フォトマスク、その製造方法及び反射型ブランクフォトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-072370
公開番号（公開出願番号）：特開2007-258720
出願日： 2007年03月20日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】表面全体的に均一に光を反射することにより焦点揺れが少ない多様な反射型フォトマスクを提供する。【解決手段】基板110と、基板110上に形成された反射層120と、反射層120上に形成された吸光パターン130と、吸光パターン130周辺に形成された補償部140aとを備える。これにより、反射型フォトマスクは、パターンのピッチによって反射する光を補償することができる。したがって、焦点が揺れる現象を低減できるので、微細なパターンを形成できる。【選択図】図2A
請求項（抜粋）：
基板と、
前記基板上に形成された反射層と、
前記基板の第1部分上に形成された前記反射層上に形成された吸光パターンと、
前記基板の少なくとも第2部分上に形成された補償部と、を備え、
前記第2部分は前記第1部分に隣接し、
前記補償部は前記吸光パターンより薄い反射型フォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
2H095BA10
, 2H095BC24
, 5F046GD07
, 5F046GD20
