特許

J-GLOBAL ID：200903084875029376

金属箔電解製造装置

発明者： 細越 文彰 ,  井上 尚光 ,  藤田 悟 ,  坂田 龍義
出願人/特許権者： 三井金属鉱業株式会社
代理人 (1件)： 田中 大輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-095612
公開番号（公開出願番号）：特開2002-294481
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、ドラム状の回転陰極を用いて電析により金属箔を連続的に製造する場合において、金属箔の幅方向における箔厚みを精密に均一制御できる金属箔電解製造装置の提供を目的としている。【解決手段】 金属箔を電着させるドラム状の回転陰極と、該回転陰極の周面形状に沿って対向配置した陽極と、回転陰極と陽極との間に回転陰極の下方側から電解液を供給する電解液供給口を有する液供給手段とを備え、液供給手段から電解液を供給しながら電解反応により回転陰極周面に金属を電着し、電着した金属箔を回転陰極から連続的に剥がし取るものである金属箔電解製造装置において、 液供給手段は、電解液供給口の上方に、回転陰極幅方向にわたる板状ダンパー体を備えたものとした。

請求項（抜粋）：

金属箔を電着させるドラム状の回転陰極と、該回転陰極の周面形状に沿って対向配置した陽極と、回転陰極と陽極との間に回転陰極の下方側から電解液を供給する電解液供給口を有する液供給手段とを備え、液供給手段から電解液を供給しながら電解反応により回転陰極周面に金属を電着し、電着した金属箔を回転陰極から連続的に剥がし取るものである金属箔電解製造装置において、液供給手段は、電解液供給口の上方に、回転陰極幅方向にわたる板状ダンパー体を備えたことを特徴とする金属箔電解製造装置。

IPC (2件)：

C25D 1/04 311 ,  C25D 1/00

FI (2件)：

C25D 1/04 311 ,  C25D 1/00 Z