特許

J-GLOBAL ID：200903084883675864

硬度/シリカ系スケールの除去剤

発明者： 中島 純一 ,  山下 正純 ,  木村 健一
出願人/特許権者： 三浦工業株式会社
代理人 (1件)： 福島 三雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-158980
公開番号（公開出願番号）：特開平9-314189
出願日： 1996年05月29日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：

【要約】【課題】 ボイラを運転しながらスケールを除去することができ、かつ安全性が高く、ボイラを腐食させず、適度なスケール除去速度を有するスケール除去剤を提供する。【解決手段】 EDTAやNTA等のキレート剤と、ポリマレイン酸やビス(ポリ-2-カルボキシエチル)ホスフィン酸等の分散剤とを含有するスケール除去剤である。

請求項（抜粋）：

エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム(EDTA)、ポリアルキレンポリアミン、ビピリジン、グリシン、アセチルアセトン、ニトリロ三酢酸(NTA)、アミノトリ(メチルホスホン酸)、アミノトリ(メチルホスホン酸)五ナトリウム塩、又は1-ヒドロキシ-1,1-ジホスホン酸であるキレート剤と、ポリマレイン酸、2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸(PBTC)、ビス(ポリ-2-カルボキシエチル)ホスフィン酸、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸、アクリル酸アクリルアミド共重合物、又はポリアクリル酸ナトリウムである分散剤とを含有する硬度/シリカ系スケールの除去剤。

IPC (4件)：

C02F 5/00 620 ,  C02F 5/10 620 ,  C02F 5/12 ,  C02F 5/14

FI (4件)：

C02F 5/00 620 C ,  C02F 5/10 620 C ,  C02F 5/12 ,  C02F 5/14 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-296499
  
• 多機能型水処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-051543   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• 特開昭58-174296