特許
J-GLOBAL ID：200903084887009532

基板処理装置

発明者：
濱田 哲也

濱田 哲也 について


出願人/特許権者：
株式会社SOKUDO

株式会社SOKUDO について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-007298
公開番号（公開出願番号）：特開2007-189139
出願日： 2006年01月16日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：
【課題】露光装置において基板に付着した液体による動作不良および処理不良が防止された基板処理装置を提供することである。【解決手段】基板処理装置500は、インターフェースブロック15を備える。インターフェースブロック15に隣接するように露光装置16が配置される。インターフェースブロック15は、第1のインターフェースブロック15aおよび第2のインターフェースブロック15bから構成される。第1のインターフェースブロック15aは、前後処理部150を含む。前後処理部150には、第1〜第3の洗浄/乾燥処理ユニットが配置される。第1の洗浄/乾燥処理ユニットにおいて、露光処理前の基板Wの洗浄および乾燥処理が行われ、第2および第3の洗浄/乾燥処理ユニットにおいて、露光処理後の基板Wの洗浄および乾燥処理が行われる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、 基板に処理を行うための処理部と、 前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、 前記受け渡し部は、 前記処理部に隣接する第1の受け渡し部と、 前記露光装置に隣接する第2の受け渡し部とを含み、 前記第1の受け渡し部は、 基板を搬送する第1の搬送ユニットと、 前記露光装置による露光処理後に基板の乾燥処理を行う乾燥処理ユニットとを含み、 前記第2の受け渡し部は、 基板を搬送する第2の搬送ユニットと、 基板が一時的に載置される載置部とを含み、 前記第1の搬送ユニットは、前記処理部および前記載置部の間で基板を搬送し、 前記第2の搬送ユニットは、前記載置部、前記露光装置および前記乾燥処理ユニットの間で基板を搬送することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/304 651A ,  H01L21/304 648C ,  H01L21/30 562
Fターム (11件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031MA09 ,  5F031MA23 ,  5F031MA27 ,  5F031PA30 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA22 ,  5F046KA10 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129817   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット

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