特許

J-GLOBAL ID：200903084888113473

パターンの形成方法

発明者： 小林 義弘
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-231974
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071473
出願日： 2002年08月08日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：

【課題】基板の表面にパターンを形成する際に、予定した区画内に均一かつムラ無く、しかもはみ出すことを防止して、塗液を適用でき、適用された種々の物質に基づき、製品の物理的機能が十分に発揮されることを可能にする。【解決手段】基板2上にエネルギーの付与により濡れ性が変化する濡れ性変化性層3を積層し、パターン露光等により、濡れ性の高い部分3Aを生成させ、極性が高い溶媒で調製した塗液10の乾燥塗膜10’を形成することにより、課題を解決することができた。さらに塗膜10’と親和性を有する溶媒を用いて調製した塗液を用いて、塗膜10’上に別の塗膜を形成することもできる。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

基板上に、エネルギーの付与により、表面の濡れ性が変化し得る素材からなる濡れ性変化性層を積層して濡れ性変化性基板を作成し、前記濡れ性変化性基板の前記濡れ性変化性層に、パターン状にエネルギーを付与して、エネルギーが付与された部分に、エネルギーが付与されなかった部分にくらべて濡れ性の高いパターン状の部分を生成させ、生成した前記濡れ性の高いパターン状の部分に、極性が相対的に高い溶媒Aを少なくとも1種類含む溶媒と前記溶媒に溶解もしくは分散する溶質Aとを含有する塗液Aを塗布し、塗布後、乾燥させて、前記濡れ性の高いパターン状の部分上に前記溶質Aの層を形成することを特徴とするパターンの形成方法。

IPC (8件)：

H05B33/10 ,  B05D1/38 ,  B05D3/04 ,  B05D3/06 ,  B05D3/10 ,  B05D5/00 ,  G02B5/20 ,  H05B33/14

FI (9件)：

H05B33/10 ,  B05D1/38 ,  B05D3/04 C ,  B05D3/06 ,  B05D3/06 102 ,  B05D3/10 ,  B05D5/00 Z ,  G02B5/20 101 ,  H05B33/14 A

Fターム (35件)：

2H048BA02 ,  2H048BA45 ,  2H048BB02 ,  2H048BB08 ,  2H048BB24 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AE17 ,  4D075BB41Z ,  4D075BB49Z ,  4D075BB68Z ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075CA48 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB36 ,  4D075DB37 ,  4D075DB38 ,  4D075DB39 ,  4D075DB43 ,  4D075DB46 ,  4D075DB47 ,  4D075DB48 ,  4D075DB50 ,  4D075DB52 ,  4D075DB53 ,  4D075DB54 ,  4D075DC18 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EB43