特許
J-GLOBAL ID:200903084892238493
凹版の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-171085
公開番号(公開出願番号):特開平5-016322
出願日: 1991年07月11日
公開日(公表日): 1993年01月26日
要約:
【要約】【目的】細い画線を厚く均一に形成することが出来ると共に、同一印刷面内の種々の線幅に対し均一でしかも所望の深さを有し、かつ非画線部が良好な印刷特性を有する印刷用凹版の製造方法を提供すること。【構成】凹版の表面特性を有するガラス基板表面にレジストを用いて所望のパターンを形成し、該パターンを含む前記基板の表面に薄膜導電層を施した後、メッキを施して前記ガラス基板から剥離し、前記パターン通りの凹部を形成する凹版の製造方法と、前記ガラス基板表面にレジストを用いてパターンを形成するときに、ガラス基板の端部にもレジストを形成する上記の凹版の製造方法である。【効果】均一で所望の高さを有するレジストパターンを金属メッキ層にて写し取るので、均一な深さで精細なパターンの印刷用凹版が得られる。
請求項(抜粋):
凹版の表面特性を有するガラス基板表面にレジストを用いて所望のパターンを形成し、該パターンを含む前記基板の表面に薄膜導電層を施した後、メッキを施して前記ガラス基板から剥離し、前記パターン通りの凹部を形成することを特徴とする凹版の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭53-019207
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特開昭61-284843
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