特許

J-GLOBAL ID：200903084893198452

高分子フィルムシートの製造方法及びこれを用いた高分子フィルムシート

発明者： 後藤 英樹 ,  江口 敏正
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089802
公開番号（公開出願番号）：特開2001-279008
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】【課題】 表面平滑性に優れた高分子フィルムシートの製造方法、及びこれを用いた高耐熱性高分子シートを提供すること。【解決手段】 鉛筆硬度がH以上の表面硬度を有する高分子フィルムシートの片面または両面を、研磨して平滑化する高分子フィルムシートの製造方法。

請求項（抜粋）：

鉛筆硬度がH以上の表面硬度を有する高分子フィルムシートの片面または両面を、研磨して平滑化することを特徴とする高分子フィルムシートの製造方法。

IPC (4件)：

C08J 7/00 CEZ ,  C08J 7/04 CEZ ,  G02F 1/1333 500 ,  C08L101:00

FI (4件)：

C08J 7/00 CEZ Z ,  C08J 7/04 CEZ K ,  G02F 1/1333 500 ,  C08L101:00

Fターム (23件)：

2H090JA07 ,  2H090JB03 ,  2H090JB06 ,  2H090JD13 ,  2H090JD14 ,  4F006AA40 ,  4F006AB34 ,  4F006AB76 ,  4F006BA02 ,  4F006BA09 ,  4F006CA05 ,  4F006CA08 ,  4F006DA04 ,  4F006EA04 ,  4F073AA10 ,  4F073BA22 ,  4F073BA32 ,  4F073BB01 ,  4F073EA02 ,  4F073EA23 ,  4F073EA52 ,  4F073GA05 ,  4F073HA14