特許

J-GLOBAL ID：200903084894222810

超音波洗浄方法

発明者： 正木 広志 ,  妻木 伸夫 ,  佐原 輝隆
出願人/特許権者： 株式会社日立プラントテクノロジー
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-083993
公開番号（公開出願番号）：特開2007-253120
出願日： 2006年03月24日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：

【課題】 汚染有機物の除去性能を高めることができる超音波洗浄方法を提供する。【解決手段】洗浄ヘッド11のスリット19を介して基板Aに、マイクロバブルを含んだ洗浄液を供給するとともに、スリット19に向けて集束するように超音波を照射させて基板Aの洗浄を行なう。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

洗浄用ヘッド本体に形成されたスリットを介して被洗浄物に、マイクロバブルを含んだ洗浄液を供給するとともに、前記スリットに向けて集束するように超音波を照射させて被洗浄物の洗浄を行なうことを特徴とする超音波洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/10

FI (3件)：

B08B3/12 Z ,  H01L21/304 643D ,  B08B3/10 Z

Fターム (9件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB85 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-327753   出願人：株式会社荏原製作所