特許
J-GLOBAL ID：200903084901421883
露光方法および露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-269310
公開番号（公開出願番号）：特開平11-154646
出願日： 1988年12月21日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：
【要約】【課題】より微細なパターンを投影光学系の開口数の極端な増大、照明光の極端な短波長化を図ることなく転写可能にする。【解決手段】 感応基板上に形成すべき全体パターン(PA)を複数のパターン(PTA1,PTA2,PTA3)に分解し、相互に重ね合わせて露光することにした。
請求項（抜粋）：
所望の全体パターンを基板上に露光する方法において、前記全体パターンのうち線状パターンが屈曲されて形成されているときに、 前記線状パターンを屈曲部で第1分解パターンと第2分解パターンとに分けられた場合に、前記第1及び第2パターンをそれぞれ前記基板上に順次位置合わせして重ね合わせ露光することを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 514 A
