感電離放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-318195
公開番号（公開出願番号）：特開平7-175213
出願日： 1993年12月17日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：

【要約】【目的】高解像力でかつ膜厚依存性が小さく、現像ラチチュードが広く、現像残渣が発生しにくい超微細加工用ポジ型フォトレジストを提供する。【構成】水不溶性アルカリ可溶性樹脂と水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物及び感電離放射線性化合物を含有する感電離放射線性樹脂組成物に於いて、該感電離放射線性化合物がフェノ-ル性水酸基を3個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸ジエステル化合物(A)とフェノ-ル性水酸基を4個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸ジエステル化合物(B)との混合物が感電離放射線性化合物の30%以上であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

水不溶性アルカリ可溶性樹脂、水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物、及び感電離放射線性化合物を含有する感電離放射線性樹脂組成物に於いて、該感電離放射線性化合物として、フェノ-ル性水酸基を3個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸ジエステル化合物(A)及びフェノ-ル性水酸基を4個有する水不溶性アルカリ可溶性低分子化合物のナフトキノンジアジドスルフォン酸ジエステル化合物(B)の混合物を、該感電離放射線性化合物の30%以上含有することを特徴とする感電離放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平2-032352
特開平2-019846
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-124536 出願人：住友化学工業株式会社

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