特許
J-GLOBAL ID：200903084915440945
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-225220
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045889
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 パターン形状の方向や線幅等により照明方法を変えたときの投影光学系の使用態様の変化に対応させてTTLオートフォーカス用の照明方法を変化させることにより、高精度のTTLオートフォーカスを可能とした半導体デバイスの製造に好適な投影露光装置を得ること。【構成】 放射源からのビームで形成した2次放射源からの2次ビームで照明された該原板の回路パターンの像を投影する投影光学系と、投影光学系の光軸方向へ保持手段により基準面を該光軸方向へ動かす間に投影光学系により原板のパターンの像を基準面上に投影させる照射手段と、パターンの像の基準面上での結像状態を検出する検出手段と、照明光学系が2次放射源の形状を変更可能に構成され、照射手段が、2次放射源像とほぼ同じ2次放射源像を投影光学系の瞳に投影するよう形状変更可能な2次放射源を供給する光学系とを有すること。
請求項（抜粋）：
放射源からのビームで形成した2次放射源からの2次ビームで原板を照明する照明光学系と、該2次ビームで該2次放射源の像が投影される瞳を有し、該2次ビームで照明された該原板の回路パターンの像を投影する投影光学系と、基準面を保持し該投影光学系の光軸方向へ該基準面を動かす保持手段と、該保持手段により該基準面を該光軸方向へ動かす間に該投影光学系により該原板の予め決めたパターンの像を該基準面上に投影させる為に該放射源からのビームとほぼ同じ波長の検出ビームを該予め決めたパターンに照射する照射手段と、該予め決めたパターンの像の該基準面上での結像状態を検出する検出手段とを有する投影露光装置において、前記照明光学系が前記2次放射源の形状を変更可能に構成され、前記照射手段が、前記2次放射源像とほぼ同じ2次放射源像を前記投影光学系の瞳に投影するよう前記検出ビームを前記予め決めたパターンに向ける形状変更可能な2次放射源を供給する光学系を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 521
, G03B 27/32
, H01L 21/027
