特許

J-GLOBAL ID：200903084925710789

磁気ディスクテクスチャー加工用基布

発明者： ▲くわ▼山 聡 ,  林 剛史 ,  佐藤 正幸
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-327621
公開番号（公開出願番号）：特開2005-088158
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】次世代磁気ディスクを得るための高性能テクスチャー加工基布を提供する。【解決手段】単糸繊度が0.03〜0.6dtexであり、繊維表面凹部が最大径で0.1μm以下のポリエステルフィラメントを用いることを特徴とする磁気ディスクテクスチャー加工用基布。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

単糸繊度が0.03〜0.6dtexであり、繊維表面凹部の最大径が0.1μm以下のポリエステルフィラメントを用いることを特徴とする磁気ディスクテクスチャー加工用基布。

IPC (6件)：

B24B37/00 ,  D03D1/00 ,  D03D15/00 ,  D06M11/00 ,  D06M11/38 ,  G11B5/84

FI (6件)：

B24B37/00 C ,  D03D1/00 Z ,  D03D15/00 F ,  D06M11/00 115 ,  D06M11/38 ,  G11B5/84 A

Fターム (31件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA01 ,  4L031AA18 ,  4L031AB11 ,  4L031AB32 ,  4L031BA11 ,  4L031CA01 ,  4L041AA07 ,  4L041BA04 ,  4L041BA05 ,  4L041BA16 ,  4L041BA48 ,  4L041BD14 ,  4L041BD20 ,  4L041CA06 ,  4L041CA11 ,  4L041DD01 ,  4L041DD11 ,  4L041EE06 ,  4L048AA21 ,  4L048AA29 ,  4L048AA35 ,  4L048AB07 ,  4L048AC17 ,  4L048CA09 ,  4L048DA24 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112GA02 ,  5D112GA09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 磁気ディスク研磨用織物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-366069   出願人：東レ株式会社