特許
J-GLOBAL ID:200903084929460108

パタン光照射装置、3次元形状計測装置、及びパタン光照射方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 増井 義久 ,  比村 潤相
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-274404
公開番号(公開出願番号):特開2007-085862
出願日: 2005年09月21日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】 低コストで画像処理に好適な正弦波パタン光を照射することのできるパタン光照射装置を実現する。【解決手段】 パタン投影ユニット1は、パタン光を計測対象200に照射するためのものであり、所定の開口幅を有する開口部が所定の間隔で複数設けられた投影パタン12と、投影パタン12に光を照射するための光源10及び集光レンズ11と、投影パタン12を通過した光を一体的に集光し、集光した光を計測対象200に照射するための投影レンズ13とを備えている。ここで、投影レンズ13は、投影パタン12の像が計測対象200に結像しないようにピントをずらして配置されている。これにより、投影パタン12の像は正弦波パタンとして計測対象200に投影される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
パタンを有する光を対象物に照射するためのパタン光照射装置であって、 開口部が複数設けられたパタン形成板と、 上記パタン形成板に光を照射するための光照射手段と、 上記光照射手段によって照射され、上記パタン形成板の開口部を通過した光を一体的に集光し、集光した光を上記対象物に導くための投影レンズとを備え、 上記投影レンズは、上記パタン形成板の像が対象物に結像せずに正弦波パタンとして投影されるように配置されていることを特徴とするパタン光照射装置。
IPC (1件):
G01B 11/25
FI (1件):
G01B11/24 E
Fターム (15件):
2F065AA24 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD02 ,  2F065FF07 ,  2F065FF09 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG07 ,  2F065HH01 ,  2F065HH03 ,  2F065LL28 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ31 ,  2F065UU01
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 位置測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-145339   出願人:株式会社セフト研究所
  • 基板検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-152204   出願人:シャープ株式会社
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-252907
  • 格子パターン投影形状測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-408934   出願人:フジノン株式会社
  • 特開平4-278406
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