特許
J-GLOBAL ID：200903084929992169
位置計測装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-107699
公開番号（公開出願番号）：特開2000-298004
出願日： 1999年04月15日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：
【要約】【課題】 ワーク上の複数の位置決めマークを一括して位置計測可能な位置計測装置を提供すること。【解決手段】 各アライメントマークについて、イメージガイド60で画像の合成を行って、画像処理装置80において撮像素子72からの一画面分の画像信号を処理することにより、それらのXY座標をそれぞれ分離して個別に計測する。このように、各アライメントマークについて一括して位置計測を行うことができるので、複数のアライメントマークであっても迅速な位置計測が可能となり、レーザアニール装置の処理のスループットを向上させることができる。
請求項（抜粋）：
ステージ上の異なる2点からの像光が入射する一対の入射端を有するとともに、前記一対の入射端からの一対の像光を当該一対の像光が重なるように合成し、合成された像光を出射端まで伝送するイメージガイドと、前記イメージガイドの前記出射端から射出される前記合成された像光を画像信号に変換する撮像手段と、前記撮像手段の変換した前記画像信号から合成前の前記一対の像光に含まれる所定の位置情報をそれぞれ分離して検出する信号処理手段とを備える位置計測装置。
Fターム (16件)：
2F065AA03
, 2F065BB01
, 2F065BB27
, 2F065CC17
, 2F065CC31
, 2F065DD06
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL03
, 2F065LL04
, 2F065MM03
, 2F065PP12
, 2F065TT02
, 2F065UU02
