特許
J-GLOBAL ID：200903084935962360
超音波による半導体基板の洗浄方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
板垣 孝夫
, 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-072871
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281833
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】洗浄効率を低下させることなく、超音波発振に伴う半導体基板のパターン形成部へのダメージを抑制し得る超音波による半導体基板の洗浄方法を提供する。【解決手段】回転される円形状半導体基板に超音波ノズルから洗浄液を噴射させて当該半導体基板を洗浄する工程を、半導体基板の内周部分においては超音波の発振出力を低くする低出力洗浄工程102Aと、外周部分においては超音波の発振出力を高くする高出力洗浄工程101Aと、これら両工程102A,101A間における遷移領域洗浄工程103Aとから構成したものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
回転される円形状半導体基板に超音波ノズルから洗浄液を噴射させて当該半導体基板を洗浄する際に、
半導体基板の内周部分においては超音波の発振出力を低くするとともに、その外周部分においては超音波の発振出力を高くすることを特徴とする超音波による半導体基板の洗浄方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/304 643D
, H01L21/304 643A
, B08B3/12 Z
3B201AA03
, 3B201AB01
, 3B201BB21
, 3B201BB43
, 3B201BB44
, 3B201BB83
, 3B201BB93
, 3B201BB94
, 3B201BB96
