特許
J-GLOBAL ID：200903084938557122
磁気記録媒体の欠陥位置特定及び解析方法並びに磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸山 敏之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-018702
公開番号（公開出願番号）：特開平10-214421
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：
【要約】【課題】 ディスク表面に存在するサブミクロンレベルの欠陥の存在位置を特定して微小欠陥を観察し、その発生原因を解析する方法を提示し、また、本方法をディスク製造工程にフィードバックし、製造されるディスクの歩留りの向上を図ることを目的とする。【解決手段】 製造された磁気記録媒体に、記録パターンの書込み及び読出しを行なうサーチファイア検査を実施し、磁気記録媒体の磁気的な微小欠陥を検出する。磁気記録媒体に磁気的な微小欠陥が検出された場合、磁気記録媒体表面上で微小欠陥の位置を特定するために、磁気記録媒体表面の少なくとも2箇所以上に、磁気データを書込み又は消去してマーキングを施す。次に、磁気記録媒体表面のマーキングの施された位置を基準に、微小欠陥の位置を特定し、検査手段を用いて、微小欠陥を観察し、微小欠陥の発生原因を解析するものである。
請求項（抜粋）：
記録パターンの書込み及び読出しを行なって、磁気記録媒体に存在する磁気的な微小欠陥を検出し、微小欠陥が検出された場合、磁気記録媒体上で微小欠陥の位置を特定するために、磁気記録媒体表面の少なくとも2箇所以上に、磁気データを書込み又は消去してマーキングを施し、磁気記録媒体表面のマーキングされた位置を基準にして微小欠陥の位置を特定することを特徴とする磁気記録媒体の欠陥位置の特定方法。
引用特許：
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