特許
J-GLOBAL ID：200903084945612210
高性能のK型偏光子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-584156
公開番号（公開出願番号）：特表2005-522727
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：
ポリビニルアルコールのシートを分子脱水させることによって形成されるポリビニレンブロックを有する、ポリビニルアルコール/ポリビニレンブロックコポリマー材料の分子配向されたシートを含む高性能のK型偏光子であって、前記分子配向されたシートが、前記ポリビニレンブロックの共役ビニレン繰り返し単位の長さのnが異なるポリビニルアルコール/ポリビニレンブロックコポリマー材料の偏光性分子を含み、前記ポリビニレンブロックのそれぞれの吸収濃度が、n=19〜25の範囲では、n=14または15の範囲における前記ポリビニレンブロックの各吸収濃度の約65%以上であり、前記吸収濃度が、約200nm〜約700nmの波長の前記ポリビニレンブロックによる吸収を測定することにより求められ、前記分子配向されたシートが、少なくとも約75の明所視二色比、RDを示す、偏光子。
請求項（抜粋）：
予め定められた原長を有し、ヒドロキシル化された直鎖状高分子量ポリマーを含むポリマーシートから偏光子を作製するための方法であって:
前記ポリマーシートを、原長の5.0倍を超えて約6.0倍までに延伸させる工程;
前記ポリマーシートに適切な脱水触媒を導入する工程;および
前記ポリマーシートと前記触媒とを、前記ポリマーシートを部分脱水させるのに適した温度に加熱して、吸光性のビニレンブロックのセグメントを形成させる工程;
を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (19件)：
2H049BA02
, 2H049BA22
, 2H049BA26
, 2H049BB42
, 2H049BB43
, 2H049BB50
, 2H049BC01
, 2H049BC03
, 2H049BC05
, 2H049BC22
, 4F073AA14
, 4F073BA17
, 4F073BB01
, 4F073CA67
, 4F073DA05
, 4F073EA01
, 4F073EA11
, 4F073EA52
, 4F073GA01
