特許

J-GLOBAL ID：200903084955483957

半導体装置の製造装置

発明者： 川畑 辰郎
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-340337
公開番号（公開出願番号）：特開平9-181146
出願日： 1995年12月27日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】ウエハ上への成膜やドライエッチング、或いはウエハの加熱処理を行う、ウエハ保持具の昇降手段を備えた半導体装置の製造装置に関し、成膜室やロードロック室を清浄に保ちつつ、ウエハ保持具の移動手段と成膜室等とを仕切るベローズに加わる応力を抑制し、装置の小型化を図る。【解決手段】処理室20と予備室26との間で被処理体を軸方向に行き来させる移動軸72と、被処理体を保持して処理室20に挿入したときに開口56を塞ぐ、移動軸72に固定された被処理体の保持具30及び39と、軸方向に伸縮するように移動軸72の周りに取り付けられ、その内側に圧力調整可能な移動軸の設置部35を形成する伸縮手段33と、移動軸72及び伸縮手段33が収納され、かつ移動軸72と保持具30及び39が接続した箇所で予備室26とつながる圧力調整可能な収納室34とを有する。

請求項（抜粋）：

開口を有する圧力調整可能な処理室と、前記処理室の開口を介して前記処理室と連接する圧力調整可能な予備室と、前記処理室と前記予備室との間で被処理体を軸方向に行き来させる移動軸と、前記移動軸に固定されて該移動軸とともに移動し、前記被処理体を保持して前記処理室に挿入したときに前記開口を塞ぐ被処理体の保持具と、前記移動軸の移動にともなって前記軸方向に伸縮するように前記移動軸の周りに取り付けられ、その内側に圧力調整可能な前記移動軸の設置部を形成する伸縮手段と、前記移動軸及び前記伸縮手段が収納され、かつ前記移動軸と前記保持具とが接続した箇所で前記予備室とつながる圧力調整可能な収納室とを有することを特徴とする半導体装置の製造装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 B ,  H01L 21/302 B