特許
J-GLOBAL ID：200903084960526222
ウエハ保持装置及びウエハ収納カセット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-072069
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283486
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 パーティクルの発生を抑えかつ静電気の残留を防止する。【構成】 ウエハ保持装置19は、半導体用のウエハを処理するウエハ乾燥部6に設けられ、ウエハを保持するものであって、ウエハ保持部25と導電部材31と支持部材28を含む接地部材とを備えている。ウエハ保持部25は、ウエハの外周端面が接触する保持面を有する絶縁体製のものである。導電部材31は、ウエハ保持部25の保持面に、ウエハに接触可能に配置されている。接地部材は、導電部材31を接地する。
請求項（抜粋）：
半導体用のウエハを処理するウエハ処理装置に設けられた、前記ウエハを保持するウエハ保持装置であって、前記ウエハの外周が接触する保持溝を有する絶縁体製のウエハ保持部と、前記保持溝の保持面に、前記ウエハの外周端面に接触可能に配置された導電部材と、前記導電部材を接地するための接地部材と、を備えたウエハ保持装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, B65D 85/00
, B65D 85/57
, H01L 21/68
