特許
J-GLOBAL ID：200903084961352406
ホログラフイツク光学素子の作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-231958
公開番号（公開出願番号）：特開平5-072960
出願日： 1991年09月11日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：
【要約】【目的】本発明は、マスターホログラムを使用することなく、密着露光法によって極めて高精度な体積反射型のホログラフィック光学素子を簡便にかつ高速でしかも大量に作製できることを最も主要な特徴としている。【構成】本発明は、ホログラフィック光学素子を感光材料に作製する場合に、感光材料を、機械的に金属等を刻みかつ表面を金属で蒸着して作製した反射型の回折格子に密着させて、感光材料を露光するか、または感光材料を、光学的に干渉縞を記録しかつ表面を金属で蒸着して作製した反射型の表面レリーフ型ホログラムに密着させて、感光材料を露光することにより、感光材料を透過する光と回折格子または表面レリーフ型ホログラムで反射した光とにより、感光材料上に体積反射型のホログラフィック光学素子を作製することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
ホログラフィック光学素子を感光材料に作製する方法において、前記感光材料を、機械的に金属等を刻みかつ表面を金属で蒸着して作製した反射型の回折格子に密着させ、前記感光材料に光を入射して、当該感光材料を透過する光と前記回折格子の表面で反射した光とにより、前記感光材料上に体積反射型のホログラフィック光学素子を作製するようにしたことを特徴とするホログラフィック光学素子の作製方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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