特許

J-GLOBAL ID：200903084984262005

ペンタエリスリトール誘導体、その製造方法、及び該化合物を含有する化粧料

発明者： 矢野 真司 ,  山口 真主 ,  川俣 章
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-289988
公開番号（公開出願番号）：特開平5-085981
出願日： 1991年11月06日
公開日（公表日）： 1993年04月06日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 下記一般式(式中、R1は炭素数10〜22の分岐鎖アルキル基を示し、R2は水素原子、炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐鎖低級アルキル基又は炭素数10〜22の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示す)で表わされる、ペンタエリスリトール誘導体、その製造方法、及び該化合物含有化粧料。【効果】 乳化剤、保湿剤、油剤等として良好な上記化合物を用いて、べとつきのない、皮膚によくなじむすぐれた化粧料を得る。

請求項（抜粋）：

次の一般式(1a)【化1】(式中、R1は炭素数10〜22の分岐鎖アルキル基を示し、R2は水素原子、炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐鎖低級アルキル基又は炭素数10〜22の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基を示す)で表わされるペンタエリスリトール誘導体。

IPC (6件)：

C07C 43/13 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  B01J 31/02 103 ,  C07C 41/26 ,  C07B 61/00 300