特許

J-GLOBAL ID：200903084993337093

高屈折率ハードコート膜及び反射防止基材

発明者： 中田 孝和 ,  古性 均 ,  袋 裕善
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-297897
公開番号（公開出願番号）：特開2001-115087
出願日： 1999年10月20日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：

【要約】【課題】 高硬度でかつ高屈折率なハードコート膜を提供すること、更にハードコート層上に、光学干渉層として、低屈折率層を形成してなる反射防止基材を提供すること。【解決手段】 透明基材上に、ベンゾイル置換ポリ(p-フェニレン)、及び/又はベンゾイル置換ポリ(p/m-フェニレン)を、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種の溶剤を含有する溶剤に溶解させて得られる溶液を塗布、乾燥してなることを特徴とする高屈折率ハードコート膜、及び該高屈折率ハードコート膜上に、それに隣接した、低屈折率層が積層されてなる反射防止基材において、該低屈折率層が溶剤としてN-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水素類からなる群から選ばれる少なくとも一種の溶剤を5重量%以上含有する溶液の塗布、乾燥により形成されることを特徴とする反射防止基材。

請求項（抜粋）：

透明基材上に、下記一般式(1)【化1】で示されるベンゾイル置換ポリ(p-フェニレン)、及び/又は下記一般式(2)【化2】で示されるベンゾイル置換ポリ(p/m-フェニレン)を、N-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種の溶剤を含有する溶剤に溶解させて得られる溶液を塗布、乾燥してなることを特徴とする高屈折率ハードコート膜。

IPC (8件)：

C09D165/02 ,  C08J 7/04 CFD ,  C09D 5/00 ,  C09D183/02 ,  C09D183/08 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  C08L 67:02

FI (8件)：

C09D165/02 ,  C08J 7/04 CFD A ,  C09D 5/00 M ,  C09D183/02 ,  C09D183/08 ,  C08L 67:02 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z

Fターム (38件)：

2K009AA05 ,  2K009AA15 ,  2K009CC03 ,  2K009CC21 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009EE03 ,  4F006AA35 ,  4F006AB32 ,  4F006AB39 ,  4F006AB54 ,  4F006BA02 ,  4F006BA14 ,  4F006CA05 ,  4F006DA04 ,  4J038DC011 ,  4J038DL021 ,  4J038DL072 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038HA476 ,  4J038JA07 ,  4J038JA18 ,  4J038JA19 ,  4J038JA22 ,  4J038JA37 ,  4J038JA56 ,  4J038JB13 ,  4J038JB27 ,  4J038KA06 ,  4J038KA18 ,  4J038MA07 ,  4J038MA09 ,  4J038NA11 ,  4J038NA18 ,  4J038NA19 ,  4J038PA19 ,  4J038PB08