特許

J-GLOBAL ID：200903084994309760

レジスト組成物

発明者： 大畑 正敏 ,  山本 正治
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-256398
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188596
出願日： 1991年10月03日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 光照射に対して感度の高いレジスト組成物の提供。【構成】 本発明は、(a)t-ブチル基、ベンジル基、α-メチルベンジル基、α,α'-ジメチルベンジル基およびトリチル基から成る群から選択される基を有する(メタ)アクリル酸エステルを必須モノマー成分とし、かつ、シアノ基を含まない重合体および(b)放射にさらされたときに酸を生じる光活性剤を含有するレジスト組成物を提供する。

請求項（抜粋）：

(a)t-ブチル基、ベンジル基、α-メチルベンジル基、α,α'-ジメチルベンジル基およびトリチル基から成る群から選択される基を有する(メタ)アクリル酸エステルを必須モノマー成分とし、かつ、シアノ基を含まない重合体および(b)放射にさらされたときに酸を生じる光活性剤を含有するレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027