特許

J-GLOBAL ID：200903085004821697

加工物を周囲空気を排除した特定の選択ガスの雰囲気中で処理するための装置及び方法

発明者： デニス・フランシス・ブレストバンスキ ,  マーク・スティーブン・ノウォタルスキ ,  ウォルター・プランテ
出願人/特許権者： プラクセア・テクノロジー・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-240062
公開番号（公開出願番号）：特開平5-286800
出願日： 1992年08月18日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】半導体デバイス等の製造に用いられる処理容器内に周囲空気を排除した雰囲気を創生するための方法及び装置を提供すること。【構成】加工物を導入するための加工物開口12と、前記加工物開口を横切るようにして選択ガスの層流状カーテン流れを放出するように向けられた放出面を有するディフューザ14とを備えた処理容器10と;前記処理容器の加工物開口と合致する加工物開口と、該加工物開口を横切るようにして選択ガスの層流状カーテン流れを放出するように向けられた放出面を有するディフューザとを備えた準備容器18と;前記準備容器の加工物開口20と処理容器の加工物開口12とを合着状態にもたらすための手段と;前記準備容器の加工物開口と処理容器の加工物開口とが合着状態に維持されているとき、加工物を該準備容器から処理容器へ移動させるための手段とから成る処理装置。

請求項（抜粋）：

加工物を特定の選択ガス雰囲気中で処理するための処理装置であって、(a) (1) 加工物を導入するための加工物開口と、(2) 前記加工物開口を横切るようにして選択ガスの層流状カーテン流れを放出するように向けられた放出面を有するディフューザとを備えた処理容器と、(b) (1) 前記処理容器の加工物開口と合致する加工物開口と、(2) 該加工物開口を横切るようにして選択ガスの層流状カーテン流れを放出するように向けられた放出面を有するディフューザとを備えた準備容器と、(c) 前記準備容器の加工物開口と処理容器の加工物開口とを合着状態にもたらすための手段と、(d) 加工物キャリアと、(e) 前記準備容器の加工物開口と処理容器の加工物開口とが合着状態に維持されているとき、前記加工物キャリアを該準備容器から処理容器へ移動させるための手段と、から成る処理装置。

IPC (4件)：

C30B 33/02 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324