投影露光方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999001262
公開番号（公開出願番号）：WO1999-049504
出願日： 1999年03月16日
公開日（公表日）： 1999年09月30日
要約：

【要約】液浸法を適用して露光を行う場合に、ウエハ(W)を移動させている間も投影光学系(PL)とウエハ(W)との間に液体(7)を満たし続けることができる投影露光方法である。投影光学系(PL)の先端部のレンズ(4)をX方向に挟むように排出ノズル(21a)と流入ノズル(23a,23b)とを配置する。XYステージ(10)によってウエハ(W)を-X方向に移動させる際に、液体供給装置(5)より供給管(21)及び排出ノズル(21a)を介して所定の温度に調整された液体(7)をレンズ(4)とウエハ(W)表面との間を満たすように供給し、液体供給装置(6)により回収管(23)及び流入ノズル(23a,23b)を介してウエハ(W)上から液体(7)を回収する。ウエハ(W)の移動速度に応じて液体(7)の供給量及び回収量の調整を行う。

請求項（抜粋）：

露光ビームでマスクを照明し、前記マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写する投影露光方法において、前記基板を所定方向に沿って移動させる際に、前記投影光学系の前記基板側の光学素子の先端部と前記基板の表面との間を満たすように、前記基板の移動方向に沿って所定の液体を流すことを特徴とする投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 517 , G03F 7/20 521

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