特許
J-GLOBAL ID：200903085010871477

指紋照合方法及び指紋画像の登録方法

発明者：
竹内 英世

竹内 英世 について


出願人/特許権者：
中央発條株式会社

中央発條株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-171279
公開番号（公開出願番号）：特開2004-086866
出願日： 2003年06月16日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】採取した指紋画像と登録されている指紋画像を照合する際に、指紋採取面への指置き位置が不適切なことによって発生する照合不良を防止する。【解決手段】指紋画像採取部10は、指紋採取面に置かれた指から指紋画像を採取する。特徴情報抽出部14は、採取された指紋画像を走査線に分解して周波数解析を行うことでスペクトルパターンを抽出する。指紋照合部16は、登録指紋画像のスペクトルパターンと抽出されたスペクトルパターンとを照合し、最小相違度と最小相違度となるときの両スペクトルパターンの位置ズレ量を求める。最小相違度が照合用閾値以内のときは、識別対象者が登録者であると判定する。最小相違度が照合用閾値を超えるときは、位置ズレ量が位置ズレ許容閾値を超えるか否かを判定する。位置ズレ量が位置ズレ許容閾値を超えるときは、指置き位置指示部20から指置き位置の移動方向を指示する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
識別対象者から採取した指紋画像と登録されている指紋画像を照合することで識別対象者が登録者であるか否かを判別する指紋照合方法であり、 指紋採取面に置かれた指から指紋画像を採取する工程、 採取された指紋画像を所定の方向に延びる複数の走査線に分解し、走査線毎にその走査線上の濃度値変化を時経列信号とみなして周波数解析を行うことでスペクトルパターンを抽出する工程、 登録指紋画像から抽出されたスペクトルパターンに対して抽出工程で抽出されたスペクトルパターンを予め設定された複数の位置にずらし、各位置における両スペクトルパターンの相違度をそれぞれ算出することで最小相違度と最小相違度となるときの両スペクトルパターンの位置ズレ量を決定する第1決定工程、 第1決定工程で決定された最小相違度と予め設定された照合用閾値とを比較し、識別対象者が登録者か否かを決定する第2決定工程、 第2決定工程で識別対象者が登録者でないと決定されたときに第1決定工程で決定された位置ズレ量と予め設定された位置ズレ許容閾値とを比較し、位置ズレ量が許容範囲内か否かを決定する第3決定工程、 第3決定工程で位置ズレ量が許容範囲内にないと決定されたときに、指紋採取面への指置き位置を変更するよう指示する工程、とを有する指紋照合方法。
IPC (2件)：
G06T7/00 ,  A61B5/117
FI (2件)：
G06T7/00 530 ,  A61B5/10 322
Fターム (15件)：
4C038FF01 ,  4C038FF05 ,  4C038FG00 ,  4C038FG01 ,  5B043AA09 ,  5B043BA02 ,  5B043DA05 ,  5B043EA07 ,  5B043EA10 ,  5B043FA07 ,  5B043GA05 ,  5B043GA11 ,  5B043GA18 ,  5B043HA02 ,  5B043HA11
引用特許：
審査官引用 (4件)
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