特許
J-GLOBAL ID：200903085015052830
X線マスクおよびX線マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-155486
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130605
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：
【要約】【目的】 電子ビーム照射によるチャージアップを防止して、検査精度を高め高精度で信頼性の高いX線露光マスクを提供するとともに、アライメント光の検出信号の背景ノイズによるアライメント精度の低下を防ぐ。【構成】 本発明の第1では、X線透過性薄膜上に形成されたX線吸収体薄膜パターン上に形成され、膜厚dが次式を満たすように形成された酸化アルミニウム膜を配設し、これが反射防止膜として機能するようにしている。d=λ(2m-1)/4ncosθn:酸化アルミニウムの屈折率λ:アライメント光の波長m=1,2,3......θ:アライメント光がX線吸収体パターンに入射するときの鉛直方向からの角度
請求項（抜粋）：
X線透過性薄膜上に形成されたX線吸収体薄膜パターンと、前記X線吸収体薄膜パターン上に形成され、膜厚dが次式を満たすように形成された酸化アルミニウム膜とを具備したことを特徴とするX線マスク。d=λ(2m-1)/4ncosθn:酸化アルミニウムの屈折率λ:アライメント光の波長m=1,2,3......θ:アライメント光がX線吸収体パターンに入射するときの鉛直方向からの角度
IPC (2件)：
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