特許
J-GLOBAL ID：200903085015260611
紫外線硬化性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、予備乾燥被膜、基板及びプリント配線板
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-055760
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330276
出願日： 2000年03月01日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【課題】 現像性、解像性、現像幅及びはんだ耐熱性に優れ、また優れた基板密着性及び耐電蝕性並びに特に優れたはんだ耐熱性及び耐金めっき性を示すソルダーレジストを基板上に形成することができる希アルカリ水溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクを調製できる紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体(a)と1分子中にエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物(b)とを含有するエチレン性不飽和単量体成分を重合させて生成される共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(d)を反応させた後、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物(e)を反応させて生成される紫外線硬化性樹脂、(B)分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、(C)光重合開始剤及び(D)希釈剤を含有させる。
請求項（抜粋）：
(A)(a)エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体と(b)1分子中にエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物とを含有するエチレン性不飽和単量体成分を重合させて生成される共重合体に、(d)カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体を反応させた後、(e)飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて生成される紫外線硬化性樹脂、(B)分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、(C)光重合開始剤及び(D)希釈剤を含有して成ることを特徴とする紫外線硬化性樹脂組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/027 515
, C08G 59/14
, C08G 59/42
, C09D 11/10
, G03F 7/038 503
, H05K 3/28
G03F 7/027 515
, C08G 59/14
, C08G 59/42
, C09D 11/10
, G03F 7/038 503
, H05K 3/28 D
