特許

J-GLOBAL ID：200903085015443856

洗浄組成物及び方法

発明者： エドガルド・アンザレス ,  ロバート・ケー・バー ,  ダニエル・イー・ランディー ,  ジョン・ピー・カハレン
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (3件)： 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-364191
公開番号（公開出願番号）：特開2004-035874
出願日： 2002年12月16日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】基体上の蓄積残渣及びカスタムを除去するための洗浄組成物及び方法の提供。【解決手段】洗浄組成物は次式の化合物を含有する:R-[O-(AO)n]m-Zここで、Rは疎水性基であり、AOは親水性基であり、Zは非イオン性又はアニオン性キャッピング基であり、nは1から200の整数であり、及びmは1から3の整数である。その洗浄組成物及び方法は、ポジ型フォトレジスト及びネガ型フォトレジスト双方により析出された蓄積残渣及びスカムを除去するために有効である。斯かる残渣及びスカムは、フォト開始剤、染料及び(メタ)アクリルモノマーを含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

洗浄組成物の約1.0重量%より大から約35重量%の量で次式の洗浄化合物を含む洗浄組成物: R-[O-(AO)n]m-Z ここで、Rは疎水性基であり、AOは親水性基であり、Zは非イオン性又はアニオン性キャッピング基であり、nは1から200の整数であり、及びmは1から3の整数である。

IPC (9件)：

C11D17/00 ,  C11D1/04 ,  C11D1/12 ,  C11D1/29 ,  C11D1/34 ,  C11D1/722 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

FI (9件)：

C11D17/00 ,  C11D1/04 ,  C11D1/12 ,  C11D1/29 ,  C11D1/34 ,  C11D1/722 ,  G03F7/42 ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/30 569E

Fターム (17件)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  4H003AB05 ,  4H003AB31 ,  4H003AB37 ,  4H003AC07 ,  4H003AC11 ,  4H003AC23 ,  4H003BA12 ,  4H003DA12 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003ED02 ,  4H003FA04 ,  5F046LA12