特許
J-GLOBAL ID:200903085015967391
アークプラズマ成膜装置用のノズルインジェクター
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
生沼 徳二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-179481
公開番号(公開出願番号):特開平11-080963
出願日: 1998年06月26日
公開日(公表日): 1999年03月26日
要約:
【要約】【課題】 プラズマ発生器としてウォールスタビライズド(wall-stabilized) アークトーチを用いるプラズマ気相成長法による保護皮膜の被覆面積及び成膜速度の向上。【解決手段】 プラズマガス導入口、1以上の陽極、末広プラズマチャネルを有する陰極、該陰極に取付けられたノズルインジェクターであって陰極から延びた末広チャネルを有するノズルインジェクター、陰極近傍のプラズマ中に酸素を注入するための酸素インジェクター、プラズマが末広チャネル内に広がるときのプラズマ中に反応性ガスを注入するための1以上の試薬インジェクターを有するアークプラズマ発生器を含んでなるアークプラズマ成膜装置用単一式ノズルインジェクター。
請求項(抜粋):
プラズマガス導入口、1以上の陽極、末広プラズマチャネルを有する陰極、該陰極に取付けられたノズルインジェクターであって陰極から延びた末広チャネルを有するノズルインジェクター、陰極近傍のプラズマ中に酸素を注入するための酸素インジェクター、プラズマが末広チャネル内に広がるときのプラズマ中に反応性ガスを注入するための1以上の試薬インジェクターを有するアークプラズマ発生器を含んでなるアークプラズマ成膜装置用単一式ノズルインジェクター。
IPC (5件):
C23C 16/50
, C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, H05H 1/42
FI (5件):
C23C 16/50
, C23C 16/44 D
, H01L 21/205
, H01L 21/31 C
, H05H 1/42
引用特許:
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