特許
J-GLOBAL ID：200903085018116791
SOG塗布装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-023460
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226482
出願日： 1992年02月10日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】【目的】 SOG塗布前処理としてウェハ表面の有機系の汚染を除去し、SOGとウェハ表面の密着性を促進させ、SOG塗布プロセスにおけるSOG膜の剥がれ防止が可能とされるSOG塗布装置を提供する。【構成】 層間絶縁膜を積層構造として平坦化するSOG塗布装置であって、SOG塗布装置1に、SOG塗布前のウェハ表面の有機物汚染を除去する前処理装置2として、ウェハステージ3に載置されたウェハを300°C程度に加熱するウェハ加熱部4、ウェハをオゾン雰囲気にさらすオゾン発生部5、ウェハの表面にUV照射するUV照射部6が一体的に連結されている。そして、前処理装置2内で、ウェハ加熱部4によってウェハ7が加熱され、同時にオゾン発生部5によるオゾンガス雰囲気の中でUV照射部6からUV光がウェハ7に照射される。
請求項（抜粋）：
層間絶縁膜を積層構造として平坦化するSOG塗布装置であって、前記SOG塗布装置に、SOG塗布前のウェハ表面の汚染となる有機物を除去する前処理機構として、ウェハを300°C程度に加熱するウェハ加熱機構を一体的に連結することを特徴とするSOG塗布装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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