特許

J-GLOBAL ID：200903085023416990

一酸化炭素及び/又は水素の製造方法

発明者： デ・ヨング,クリヤン・ピーター ,  スコーネベーク,ロナルド・ヤン ,  ヴオンケマン,クルト・アレキサンダー ,  レツドノア,ピーター・ウイリアム ,  オウド,アンナ・エリザベート・マリア ,  ヴアン・デル・ズヴエツト,ゲラルドウス・ペトルス
出願人/特許権者： シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
代理人 (1件)： 川原田 一穂 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-517770
公開番号（公開出願番号）：特表平9-504770
出願日： 1994年12月22日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】炭化水素フィードストックから一酸化炭素及び/又は水素を製造する方法は、第1段階で炭化水素フィードストックを接触部分酸化法にかけ、炭化水素フィードストックと酸素含有ガスを含み、更に窒素も含む気体混合物を、ロジウム、イリジウム又は白金を触媒活性金属として含む触媒と接触させ、第2段階で第1段階の生成物の少なくとも一部をアンモニア及び/又はシアン化水素除去工程にかけることからなる。

請求項（抜粋）：

炭化水素フィードストックから一酸化炭素及び/又は水素を製造する方法であって、第1段階で炭化水素フィードストックを接触部分酸化法にかけ、炭化水素フィードストックと酸素含有ガスを含み、更に窒素も含む気体混合物を、ロジウム、イリジウム又は白金を触媒活性金属として含む触媒と接触させ、第2段階で第1段階の生成物の少なくとも一部をアンモニア及び/又はシアン化水素除去工程にかけることからなる前記方法。

IPC (4件)：

C01B 3/40 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/46 ,  C01B 3/38

FI (4件)：

C01B 3/40 ,  B01J 23/42 M ,  B01J 23/46 M ,  C01B 3/38