特許
J-GLOBAL ID：200903085025859570
シリコン保護層を備えた溶融ポット、シリコン保護層を適用する方法及びその使用
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-533687
公開番号（公開出願番号）：特表2001-510434
出願日： 1998年01月22日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：
【要約】本発明はシリコン保護層を有する溶融ポット、このような層を適用する方法及びその使用に関する。
請求項（抜粋）：
溶融ポットと固化しつつある非鉄溶融物との接触の後溶融ポットと非鉄金属との接着を回避するために窒化ケイ素保護層を備えた石英、グラファイト又はセラミック溶融ポットであって、該層は、0.3重量%乃至5重量%の酸素含有率を有しそして長さ(l)対直径(d)比が<10である窒化ケイ素粉末を含んで成ることを特徴とする溶融ポット。
引用特許：
引用文献：
前のページに戻る
