特許
J-GLOBAL ID：200903085033141638
アーク放電プラズマによる被膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-056002
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258833
出願日： 1994年03月25日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】【目的】アーク放電プラズマを用いて被膜を基体上に被覆するときに、プラズマ流を垂直に蒸着材料に入射させて均一な厚みの被膜を形成する方法を提供する。【構成】減圧した雰囲気が調節できる成膜室にプラズマ発生源2と、成膜室6内に水平方向に放電プラズマ流として引き出す磁気コイル4および14と、ハースと、ハースに取り付けられアーク放電プラズマ流を下方に曲げる磁場形成手段8とを有する蒸発手段を用いる方法で、ハースに水平磁場を発生させる第2の磁場形成手段を取付ける。
請求項（抜粋）：
減圧した雰囲気が調節できる成膜室6の側壁部に設置したプラズマ発生源2と、前記プラズマ発生源2内で発生させた不活性ガスを含むアーク放電プラズマを成膜室6内に略水平方向に放電プラズマ流として引き出す磁気コイル4および14と、成膜室6の底部に設けられたハース7と、前記ハース7に取り付けられ前記アーク放電プラズマ流を下方に曲げる磁場形成手段8とを有する蒸発手段を用いて、前記アーク放電プラズマ流を前記ハース内に充填した蒸着原料に収束入射させて前記蒸着原料を蒸発させ、前記ハースの上方に保持した基体表面に被膜を形成する方法において、前記プラズマ発生源から引き出された直後のアーク放電プラズマ流と同一方向の水平磁場を形成させる第2の磁場形成手段24を前記ハースに取付けたことを特徴とするアーク放電プラズマによる被膜の形成方法。
引用特許：
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