特許

J-GLOBAL ID：200903085034561061

偏光子とその製造方法

発明者： 桂川 忠雄
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-119711
公開番号（公開出願番号）：特開平9-281329
出願日： 1996年04月17日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】 挿入損失が小さく、大面積化が容易で、偏光特性の劣化が少ない偏光子とその製造方法を提供する。【解決手段】 粒径100Å以下の金属又は半導体の粒子を有機溶剤中に分散させてなる超微粒子分散液をガラス基板2の表面2aに直線状に且つ互いに等間隔に複数列滴下塗布した後、焼成し、ガラス基板2の表面2aに金属又は半導体からなる複数の線状体を形成する。塗布液の幅を変えることにより、ガラス基板2の表面2aに形成される線状体の幅を任意に調整できるので、500Å以下の極細の線状体を広い面積に亘って直線状に容易に形成でき、挿入損失が小さく、大面積の偏光子を容易に製造することができる。

請求項（抜粋）：

粒径が100Å以下の金属又は半導体の粒子を有機溶剤中に分散させてなる超微粒子分散液を可視光に対して透明な支持板の表面に直線状に且つ互いに等間隔に複数列滴下塗布した後、焼成することにより、当該支持板の表面部に金属又は半導体からなる複数の線状体を各々直線状にかつ互いに等間隔に形成するようにしたことを特徴とする偏光子の製造方法。