特許
J-GLOBAL ID:200903085038874714

光酸化触媒およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-188301
公開番号(公開出願番号):特開2002-001126
出願日: 2000年06月22日
公開日(公表日): 2002年01月08日
要約:
【要約】【課題】 光触媒の支持体上への密着性を向上させ、かつ塗布、焼成工程を簡略化した光触媒と、その製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 支持体2と、該支持体2上に少なくとも金属酸化物前駆体を含むゾル溶液を塗布および焼成してなる金属酸化物焼成体層とを有する光酸化触媒であって、該金属酸化物焼成体層4が、緻密な構造を有する金属酸化物層である高密度金属酸化物層41と多孔質の金属酸化物層である低密度金属酸化物層42とからなる光酸化触媒、およびその製造方法。
請求項(抜粋):
支持体と、該支持体上に少なくとも金属酸化物前駆体を含むゾル溶液を塗布および焼成してなる金属酸化物焼成体層とを有する光酸化触媒であって、該金属酸化物焼成体層が、その断面構造において、支持体側よりも表面側の方が疎である構造を有する金属酸化物であることを特徴とする光酸化触媒。
IPC (4件):
B01J 35/02 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 37/02 301 ,  B01J 37/08
FI (4件):
B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 37/02 301 M ,  B01J 37/08 ,  B01D 53/36 J
Fターム (61件):
4D048AA21 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048BA07X ,  4D048BA10X ,  4D048BA13X ,  4D048BA15Y ,  4D048BA16Y ,  4D048BA21Y ,  4D048BA23Y ,  4D048BA27Y ,  4D048BA41X ,  4D048BB03 ,  4D048BB16 ,  4D048BB17 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA03A ,  4G069BA03B ,  4G069BA14B ,  4G069BA21C ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB08C ,  4G069BB12C ,  4G069BC12A ,  4G069BC12C ,  4G069BC22A ,  4G069BC22C ,  4G069BC35A ,  4G069BC35C ,  4G069BC50A ,  4G069BC50C ,  4G069BC54A ,  4G069BC54C ,  4G069BC60A ,  4G069BC60C ,  4G069BD12C ,  4G069BE06C ,  4G069BE08C ,  4G069CA01 ,  4G069CA07 ,  4G069CA08 ,  4G069CA11 ,  4G069EA07 ,  4G069EB15Y ,  4G069EC28 ,  4G069EC29 ,  4G069ED03 ,  4G069EE06 ,  4G069FA03 ,  4G069FB08 ,  4G069FB14 ,  4G069FB23 ,  4G069FB24 ,  4G069FB30 ,  4G069FB33 ,  4G069FB34 ,  4G069FB78
引用特許:
審査官引用 (1件)

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